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台积电和三星3nm工艺研发遇挑战 或影响最终量产时间

2021-01-14 11:30:53    来源:IT之家

在此前的报道中,英文媒体援引产业链方面的消息报道称,台积电和三星的 3nm 工艺研发均遭遇关键瓶颈,研发进度也不得不推迟。

台积电和三星的 3nm 工艺研发遭遇挑战,是否会影响到最终的量产时间也备受关注,但在最新报道中表示,目前仍有足够的时间在 2022 年开始量产。

3nm 是 5nm 之后芯片制程工艺上的一个完整的技术跨越,芯片的晶体管密度、速度和能耗,较 5nm 都将会有明显的提升。

在 3nm 工艺上,台积电和三星这两大芯片代工商走的是不同的路线,台积电仍将采用成熟的鳍式场效应晶体管技术(FinFET),外媒称三星将采用环绕栅极晶体管技术(GAA)。

台积电 CEO 魏哲家,在此前的财报分析师电话会议上曾多次谈到 3nm 工艺,他表示 3nm 工艺计划 2021 年风险试产,他们的目标是在 2022 年下半年大规模量产。这也就意味着目前距离量产还有一年半的时间,他们也需要尽快攻克所遇到的关键瓶颈,以便在今年完成风险试产,进而在明年下半年大规模投产。

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